薄膜熱電偶功能層沉積系統、小尺寸磁控濺射試驗系統招標公告
項目所在地區：北京市
1.招標條件
本招標項目薄膜熱電偶功能層沉積系統、小尺寸磁控濺射試驗系統（項目名稱）（項目編號：0730-2511010525/01）招標人為中國航發北京航空材料研究院，招標項目資金已落實。 本項目已具備招標條件，現對薄膜熱電偶功能層沉積系統、小尺寸磁控濺射試驗系統（設備名稱） 采購進行公開招標。
2.項目概況與招標范圍
2.1 項目名稱：薄膜熱電偶功能層沉積系統、小尺寸磁控濺射試驗系統。
2.2 設備名稱：薄膜熱電偶功能層沉積系統、小尺寸磁控濺射試驗系統。
2.3 數量：2臺（薄膜熱電偶功能層沉積系統1臺、小尺寸磁控濺射試驗系統1臺）。
2.4 招標文件簡要技術規格：
薄膜熱電偶功能層沉積系統關鍵技術指標：
（1）薄膜沉積的均勻性：沉積薄膜厚度為2-3μm，偏差±0.1μm；
（2）最高加熱溫度≥500℃，長期工作溫度≥450℃，溫控精度±5℃；
（3）具有連續加工能力，兼容不同尺寸工件加工，最大加工尺寸工件≥1000*400*350mm；
（4）具有矩形靶（靶面積≥600*150mm，數量1個）及圓靶（Ф76.2mm，數量4個），至少1臺射頻電源（≥10kW，廠家：AE、霍廷格等知名品牌或以上），1臺直流電源（≥10 kW），2臺直流電源（≥1 kW），各靶均可進行射頻、直流濺射；
（5）真空腔室（低真空部分，極限真空≤8*10-1Pa，抽速：30min真空度≤1Pa），過渡、鍍膜腔室（高真空部分，極限真空度≤6.6×10-5Pa，抽速：短時間暴露大氣環境，120min真空度≤7×10-4Pa，保壓：停泵8h后≤6Pa）。
小尺寸磁控濺射試驗系統關鍵技術指標：
（1）真空腔室尺寸≥Ф650*600mm；
（2）極限真空度≤6.6×10-5Pa，抽速：短時間暴露大氣環境，120min真空度≤7×10-4Pa，保壓：停泵8h后≤6Pa ；
（3）濺射靶頭數量4個，靶頭可適配射頻、直流兩種電源；
（4）最高加熱溫度≥650℃，長期工作溫度≥600℃，溫控精度±5℃；
（5）配備射頻電源4臺，直流電源1臺，其中進口電源數量2臺（進口電源品牌為AE、霍廷格等知名品牌同等及以上產品）、
（6）靶在上，待沉積樣品在下，從上往下沉積。
更多要求詳見招標文件。
2.5 交貨期：合同簽訂生效后3個月。
2.6 交貨地點：用戶現場（北京）。
3.投標人資格要求
3.1 資質要求：